Cet ouvrage examine et tudie les caractristiques des structures de silicium nanoporeux fabriques par gravure anodique de tranches de silicium. Le silicium poreux prsente de nouvelles proprits matrielles qui diffrent de celles du silicium massif. Ces nouvelles proprits sont intressantes et applicables dans divers domaines tels que l'optique, l'optolectronique, la technologie des capteurs et la biomdecine. La comprhension de la dynamique et des mcanismes impliqus dans le processus de gravure, tels que les relations de cause  effet, les proprits internes des plaquettes et les conditions anodiques externes du processus de gravure, est donc essentielle pour aider les technologues  fabriquer les structures poreuses souhaites  des fins diverses. Diverses tranches de silicium de proprits diffrentes sont graves dans un environnement contrl avec des conditions externes variables telles que la densit de courant, les solutions d'lectrolyte, les tensioactifs de surface et le temps de gravure. Les relations et dpendances telles que l'paisseur de la couche poreuse grave, le taux de gravure et le taux de dgradation des structures et de la morphologie de la surface sur les conditions anodiques externes sont tablies.